薄膜生產(chǎn)技術(shù)在電子產(chǎn)品中的應(yīng)用主要包括集成電路和半導體涂層、各種顯示元件的涂層、電子管和傳感器。之前已經(jīng)介紹了半導體和各種顯示元件的鍍膜，本文主要介紹了真空鍍膜設(shè)備在電子管和傳感器領(lǐng)域的應(yīng)用。

首先是電子管

攝像管，用于電視、照相機。

1、光導性好，涂覆靶材為 CdS3、Se-As-Te、ZnSe、PbO，采用蒸發(fā)涂覆 I 藝術(shù)薄膜。

2、透明導電膜，涂布靶為 SnO、In2O3，采用蒸發(fā)或濺射涂布 I 藝術(shù)膜。

3、電極，涂覆靶材為 Cr、Cu(Au)，采用蒸發(fā)涂覆 I 藝術(shù)膜。

2. 傳感器

1、約瑟夫遜裝置，用于超級計算機。

(1) Josephson 接頭，涂層靶材為 PbO+In2O、Pb、Nb、NbN、V3Si，采用蒸發(fā)或濺射涂層工藝形成薄膜。

(2) 保溫膜，涂布靶材為 SiO2、SiO，采用蒸發(fā)或濺射涂布工藝。

(3) 電極，涂覆靶材為 Au+Pb+In,Pb+Au+Pb，采用蒸發(fā)涂覆工藝形成薄膜。

2、磁泡，應(yīng)用于計算機存儲器。

(1) 傳感器 (氣泡)，涂層靶材 Fe-Ni，采用蒸發(fā)或濺射涂層工藝。

(2) 保溫膜，涂覆靶材為 Al-Cu，采用 CAI 法涂覆工藝形成膜。

(3) 電極，涂層靶材為 SiOz，通過濺射涂層 I 形成薄膜。

3、磁盤，適用于計算機內(nèi)存。

傳感器的涂層靶材為 Fe、CO、Fe2O3、Fe3O4，通過蒸發(fā)或濺射涂層工藝形成。