磁控濺射鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于塑料制品、陶瓷、樹(shù)脂、水晶玻璃制品、工藝品、塑料手機(jī)殼、電子產(chǎn)品、建材等行業(yè)。該系列設(shè)備主要采用直流（或中頻）磁控濺射，可用于銅、鈦、鉻、不銹鋼、鎳等多種金屬材料的涂層靶材。采用濺射工藝可以對(duì)薄膜進(jìn)行鍍膜，可以提高薄膜的附著力、重復(fù)性、密度、均勻性等特性。

可利用時(shí)間控制薄膜厚度滿足設(shè)計(jì)工藝要求，節(jié)省晶控和光控環(huán)節(jié)，為客戶節(jié)省大量膜厚儀耗材；可生產(chǎn)高折射率氮化膜，提高薄膜硬度性能；低溫成膜可用于多種用途；*利裝置自動(dòng)調(diào)節(jié)氣體流量，保持目標(biāo)電壓穩(wěn)定，保證成膜質(zhì)量；可選配校正板外調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。

磁控濺射鍍膜機(jī)的濺射沉積系統(tǒng)在側(cè)壁上安裝了多個(gè)圓柱形靶，以提高沉積速率和多層鍍膜。該系統(tǒng)采用直流脈沖或射頻功率的圓形陰極。垂直安裝的基板和圓柱形陰極減少了鍍膜過(guò)程中的顆粒污染。Ar膜（基片玻璃透過(guò)率>91.5%），420-680nm波段，單面平均透過(guò)率>95%，反射率小于0.5（平均值）%；雙面平均透過(guò)率>98%，反射率小于0.5（平均值）%；彩色膜或漸變色膜：根據(jù)客戶樣品，任意位置裝膜或滿爐連續(xù)5爐，1.2；沸騰試驗(yàn)：80℃沸騰30min，3M網(wǎng)格試驗(yàn)（1*1mm），大于4B。