PVD鍍膜機的工作原理主要基于物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，這一技術(shù)涉及將材料源在真空環(huán)境下通過物理方法（如蒸發(fā)或濺射）轉(zhuǎn)化為氣態(tài)，然后沉積在基底表面形成薄膜。以下是PVD鍍膜機工作原理的詳細解釋：

一、準備工作

清洗和表面處理：首先，對待鍍物體進行徹底的清洗和表面處理，以確保其表面干凈、無油污、無氧化物等雜質(zhì)，并具有一定的粗糙度，以增加鍍層的附著力。

放置待鍍物體：將處理好的待鍍物體放置在真空腔室中。真空腔室的作用是將氣體抽取出來，以創(chuàng)建一個低壓環(huán)境，避免氣體分子與鍍層材料反應(yīng)。

二、真空環(huán)境的創(chuàng)建

抽氣系統(tǒng)：通過真空泵等設(shè)備，將腔室內(nèi)的氣體抽取至較低的壓強，以創(chuàng)建一個高真空環(huán)境。這一步驟至關(guān)重要，因為空氣分子會對蒸發(fā)的膜體分子產(chǎn)生碰撞，導致結(jié)晶體粗糙無光。高真空環(huán)境可以顯著減少這種碰撞，使結(jié)晶體細密光亮。

三、氣體離子化

通入鍍層材料氣體：在真空腔室中，向氣體供應(yīng)源中通入所需的鍍層材料氣體，如金屬蒸發(fā)源中通入金屬蒸發(fā)材料。

加熱氣化：通過電子束加熱或電阻加熱等方式，將鍍層材料加熱至氣化溫度，使其從固體轉(zhuǎn)變?yōu)闅怏w狀態(tài)。

氣體分子碰撞：這些氣體分子隨后會與待鍍物體表面進行碰撞，為后續(xù)的離子轟擊和沉積過程做準備。

四、離子轟擊

氣體離子化：離子源通常是通過電離或放電等方式將氣體離子化。

加速和引導離子：加速并引導離子轟擊到待鍍物體表面。

清除雜質(zhì)和增強結(jié)合力：離子轟擊能夠清除待鍍物體表面的氧化物、油脂和雜質(zhì)等，并提高表面的粗糙度，從而增強鍍層與基材的結(jié)合力。

五、沉積

離子沉積：在離子轟擊的作用下，鍍層材料的離子會沉積在待鍍物體表面，并與其結(jié)合形成均勻的鍍層。

控制參數(shù)：通過控制離子的能量、束流密度和沉積時間等參數(shù)，可以獲得不同厚度和性質(zhì)的鍍層。

綜上所述，PVD鍍膜機利用物理氣相沉積技術(shù)，將固態(tài)材料轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)材料，然后通過離子轟擊和沉積的方式將鍍層材料沉積在待鍍物體表面上。這種技術(shù)可以提供高質(zhì)量的鍍層，具有良好的附著力、硬度和耐磨性等特點，廣泛應(yīng)用于光學、電子、汽車和航空航天等行業(yè)。