1、真空鍍膜:

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面。它以真空技術為基礎，采用物理或化學方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控制等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供了薄膜制備的新工藝。簡單地說，就是將金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或濺射，使其被涂在物體(稱為基板、基板或基體)上的凝固和沉積方法，稱為真空鍍膜。

真空鍍膜是相對于上述濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新的鍍膜技術，通常稱為干式鍍膜技術。

2、光學涂層:

光學鍍膜是指在光學零件表面鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝。光學零件表面涂層的目的是為了減少或增加對光線的反射、分束、分色、過濾、偏振等要求。常用的涂布方法有真空涂布(一種物理涂布)和化學涂布。

光學鍍膜是一種物理或化學方法，在材料表面涂上一層透明的電解質膜，或涂上一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。

三、從上面可以了解到，真空鍍膜與光學鍍膜的區(qū)別有以下兩點:

1. 真空鍍膜是以真空技術為基礎，采用物理或化學方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻、磁控等一系列新技術。光學鍍膜是一種物理或化學方法，在材料表面涂上一層透明的電解質膜，或一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。

2、真空鍍膜是真空應用領域，而光學鍍膜是指在光學零件表面鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝。